光刻胶又叫光刻胶，是一种感光材料，在光线照射下会发生变化，是微电子技术中精细图形处理的重要物质，在电子、印刷业等行业得到广泛的应用。光刻胶分为正、负两种：一种是正面胶水，一种是正面胶水，另一种是阴胶水，一种是阳胶，另一种是阴胶。而负胶体则正好相反，在暴露后，被照射的部位就会不容易溶解，在显影后，只剩下一小部分作为光源。

光刻胶是什么东西

光刻胶又叫光刻胶，是一种感光材料，在光线照射下会发生变化，是微电子技术中精细图形处理的重要物质，在电子、印刷业等行业得到广泛的应用。光刻胶分为正、负两种：一种是正面胶水，一种是正面胶水，另一种是阴胶水，一种是阳胶，另一种是阴胶。

而负胶体则正好相反，在暴露后，被照射的部位就会不容易溶解，在显影后，只剩下一小部分作为光源。

光刻胶成分

光刻胶一般分为三大类：感光材料、基质材料、溶剂。感光材料有时也被包含在感光材料中。光刻胶按其对紫外线的反应特点，可以将其分为负性光刻胶与正性光刻胶粘剂。

1、负性光刻胶（polymethod）

目前主要产品有：聚肉桂酸（polygen）和环化橡胶（环化橡胶），其中KPR是典型的柯达（KPR）和OMR（OMR）。

2、正性光刻胶（polymethod）

以苯二酚作为光敏剂，以酚醛为基质。AZ-1350是最常见的一种。正胶具有很高的分辨率，但其灵敏度、耐蚀性、附着性等缺点。

光刻胶特性

1、光照射时，溶解速度会改变，非曝光区和曝光区之间的溶解率差异，从而完成图像的转换；

2、溶解抑制/溶解协同效应；

3、作用机制因光刻胶粘剂的种类而异；

光刻胶工艺要点

1、分辨率：区分晶圆表面附近图形特征的能力，通常用临界大小来测量分辨率。光刻胶的解析度随着临界尺寸的减小而提高。

2、对比度：指光刻胶由曝光区向非曝光区过渡时的一个陡度。反差越大，图像的侧面就越陡，清晰度也就越高。

3、敏感度：在光刻胶上需要的最少的能量（或最低的曝光量），才能制作出一幅好的图案。每平方厘米毫焦，或每平方厘米微焦耳。光刻胶在深紫外线（DUV）和极深紫外线（EUV）等短波波长下，具有较高的灵敏度。

4、粘滞性/粘滞性：用于测量光刻胶的流动性能.在光阻剂中，溶剂越少，粘性越大；高粘性可生成较厚的光阻剂；粘性越低，则光阻剂的厚度就越均匀。

5、粘附力：是光刻胶与基板粘合程度的指标。光刻胶的粘着度不够，会使硅片的图形发生畸变。

6、耐腐蚀：在刻蚀过程中，光刻胶要保持其粘性，从而对基板表面起到保护作用。

7、表面张力：使表面分子在液体中被吸引到液体中。光刻胶的表面张力相对较低，以保证光阻剂的流动性和包覆性。

8、存储与传输：光刻胶能够被能量激发。存放在密闭，低温，不透光的盒子里。同时，光刻胶的空闲时间和贮存温度也要有明确的规定。

光刻胶的基本功能

1、将掩模板上的图案转移至硅片的氧化物；

2、在随后的步骤中，对下方的材料进行保护（腐蚀或离子注入）。

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